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真空鍍膜機(jī)是化工試驗(yàn)裝置,反應(yīng)裝置,微反應(yīng)裝置概念及方法材料

更新時(shí)間:2019-05-10      點(diǎn)擊次數(shù):3074

真空鍍膜機(jī)是化工試驗(yàn)裝置,反應(yīng)裝置,微反應(yīng)裝置概念及方法材料 
主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類(lèi),包括真空鍍膜機(jī),MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。


真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
真空鍍膜是化工試驗(yàn)裝置,反應(yīng)裝置,微反應(yīng)裝置,靜電紡絲設(shè)備是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō),在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,使其在被涂覆的物體(稱(chēng)基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法。


真空鍍膜是化工試驗(yàn)裝置,反應(yīng)裝置,微反應(yīng)裝置,靜電紡絲設(shè)備的方法材料:
(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜。
(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強(qiáng)約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。


(3)化學(xué)氣相沉積:通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,獲得沉積薄膜的過(guò)程。
(4)離子鍍:實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼有兩者的工藝特點(diǎn)。

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